2023年11月17日消息，據(jù)國家知識產(chǎn)權(quán)局公告，上海新陽半導(dǎo)體材料股份有限公司取得一項名為“一種酸性清洗液的應(yīng)用”，公開號CN117070283A，專利申請日期為2023年11月。
專利摘要顯示，本發(fā)明公開了一種酸性清洗液的應(yīng)用。本發(fā)明的酸性清洗液用于清洗刻蝕灰化后的半導(dǎo)體芯片；所述的酸性清洗液的原料包括下列質(zhì)量分?jǐn)?shù)的組分：0.1-4％有機胺、0.1-9％酸、氟化物、緩蝕劑、螯合劑、表面活性劑和水，水補足余量，各組分質(zhì)量分?jǐn)?shù)之和為100％；所述的表面活性劑為磺酸鹽類陰離子表面活性劑；所述的酸與所述的有機胺的質(zhì)量比為(1-3):1。本發(fā)明的酸性清洗液具有如下的一個或多個優(yōu)點：具有較好的清洗效果，可以抑制半導(dǎo)體晶圓的損傷，具有較好的BTA清除效果。
來源：金融界
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